- Под заказ
Двухголовочный высоковакуумный магнетронно-плазменный распылитель постоянного/радиочастотного тока представляет собой компактную систему магнетронного распыления с двумя источниками излучения, например, один источник постоянного тока для нанесения металлической пленки, а другой источник радиочастотного излучения для нанесения неметаллического материала.
Для более подробной информации по установке или цене пишите на почту. Ответим на любые вопросы!
Двухголовочный высоковакуумный магнетронно-плазменный распылитель постоянного/ радиочастотного тока предназначен для нанесения как одного, так и нескольких слоев пленки на широкий спектр материалов, таких как сплавы, сегнетоэлектрики, полупроводники, керамика, диэлектрики, оптические материалы, ПТФЭ и т.д. По сравнению с аналогичным оборудованием он обладает преимуществами небольшого размера и простота в эксплуатации и широкий выбор используемых материалов. Это идеальное оборудование для приготовления пленок из различных материалов в лабораторных условиях.
Характеристики