- Под заказ
Вакуумная магнетронная система распыления
0,00 ₽
12 недель
Система вакуумного магнетронного распыления в основном состоит из вакуумной камеры для распыления, мишени для магнетронного распыления на постоянных магнитах (три мишени), платформы для нагрева одной подложки, источника постоянного тока, источника радиочастотного питания, рабочего воздушного тракта, системы отбора воздуха, измерения вакуума, электронной системы управления и монтажной платформы.
Для более подробной информации по установке или цене пишите на почту. Ответим на любые вопросы!
Система вакуумного магнетронного распыления используется для получения новых тонкопленочных материалов, таких как нанометровые однослойные и многослойные функциональные пленки, твердые пленки, металлические пленки, полупроводниковые пленки и диэлектрические пленки. Она может широко использоваться в исследованиях и производстве тонкопленочных материалов в колледжах и университетах.
CY-MSZ230-50F-DC
Характеристики
- Скорость вращения центрифуги
- 0-30 об/мин
- Рабочая температура
- 600℃
- Размер камеры
- 450×400 мм
- Контроль температуры
- ±1℃
- Предельная степень вакуума
- ≤6.6*10-6 Pa
Комментарии (0)
Еще нет отзывов.
В этой категории 16 товаров:
Система вакуумного магнетронного распыления в основном состоит из вакуумной камеры для распыления, мишени для магнетронного распыления на постоянных магнитах (три мишени), платформы для нагрева одной подложки, источника постоянного тока, источника радиочастотного питания, рабочего воздушного тракта, системы отбора воздуха, измерения вакуума, электронной системы управления и монтажной платформы.
Для более подробной информации по установке или цене пишите на почту. Ответим на любые вопросы!