Устройство для нанесения магнетронного напыления с одной мишенью и наклоняемой подставкой для образцов

Данное оборудование представляет собой устройство для нанесения магнетронного напыления с одной мишенью и наклоняемой подставкой для образцов. Угол между подставкой для образцов и поверхностью мишени регулируется, и устройство для нанесения покрытий с помощью магнетронного напыления можно использовать для получения пленок с определенными углами роста. Внешний вид оборудования соответствует настольному, что значительно снижает требования к месту установки. Оборудование оснащено источником питания постоянного тока, который может использоваться для распыления металла и других токопроводящих материалов. Вакуумная система оборудования оснащена турбомолекулярными насосами, которые обеспечивают высокую скорость откачки, высокую предельную степень разрежения и отличные вакуумные характеристики. Это оборудование отличается компактной конструкцией, совершенными функциями, простотой в использовании и отлично подходит для проведения различных испытаний покрытий.