• Под заказ
Устройство для нанесения покрытия магнетронным распылителем постоянного тока с одной мишенью типа D с полостью
search
  • Устройство для нанесения покрытия магнетронным распылителем постоянного тока с одной мишенью типа D с полостью
  • Устройство для нанесения покрытия магнетронным распылителем постоянного тока с одной мишенью типа D с полостью
  • Устройство для нанесения покрытия магнетронным распылителем постоянного тока с одной мишенью типа D с полостью
  • Устройство для нанесения покрытия магнетронным распылителем постоянного тока с одной мишенью типа D с полостью

Устройство для нанесения покрытия магнетронным распылителем постоянного тока с одной мишенью типа D с полостью

0,00 ₽
12 недель

Устройство для нанесения покрытия с помощью магнетрона постоянного тока с одной мишенью оснащено источником питания постоянного тока и может использоваться для получения однослойных или многослойных сегнетоэлектрических пленок, проводящих пленок, пленок из сплавов, полупроводниковых пленок, керамических пленок, диэлектрических пленок, оптических пленок и т.д.

Количество
Под заказ

Устройство для нанесения покрытия постоянным током с магнетронным распылением с одной мишенью типа D - это специальное лабораторное устройство для нанесения покрытия с двумя позициями мишени, разработанное нашей компанией. Оборудование оснащено источником питания постоянного тока и может использоваться для изготовления однослойных или многослойных сегнетоэлектрических пленок, проводящих пленок, пленок из сплавов, полупроводниковых пленок, керамических пленок, диэлектрических пленок, оптических пленок и т.д.

По сравнению с обычным плазменным распылением, магнетронное распыление обладает преимуществами высокой энергии и скорости, высокой скорости нанесения покрытия, низкого повышения температуры образца и является типичным методом высокоскоростного и низкотемпературного распыления. Мишень магнетрона оснащена промежуточным слоем с водяным охлаждением. Охладитель воды эффективно отводит тепло и предотвращает его накопление на обрабатываемой поверхности, благодаря чему магнетронное покрытие может стабильно работать в течение длительного времени.

В данной модели устройство расположено снизу, а стол для образцов - сверху. Высоту целевой поверхности можно точно отрегулировать с помощью программы, а также ее можно нагревать

CY-MSH500X-I-DC-SS

Характеристики

Мощность
6 кВт
Скорость вращения центрифуги
1-20 Об/Мин
Диаметр обрабатываемых образцов
200 мм
Тип вакуумного насоса
Оснащен молекулярной насосной системой со скоростью перекачивания 1200 л/с
Габаритные размеры
1250мм Х 1000мм Х 2000мм
Вес
500 кг
Электропитание
AC220V,50Hz
Рабочая температура
RT-500℃
Размер камеры
φ500 мм X550 мм В
Охладитель воды
Охладитель циркулирующей воды производительностью 10 л/мин
Режим охлаждения
Водяное охлаждение, требуемый расход 10 л/мин
Смотровое окошко
φ100 мм
Предельная степень вакуума
9x10-4 па
Регулятор расхода газа
Для контроля расхода Ar используется 1 массовый расходомер с диапазоном измерения Ar 200 куб. см;
Источник питания постоянного тока для распыления
Один источник питания постоянного тока мощностью 500 Вт, подходящий для получения металлических пленок
Режим работы
Профессиональная система управления CYKY собственной разработки
Материал вакуумной камеры
Нержавеющая сталь
Комментарии (0)
Еще нет отзывов.