- Под заказ
Данное оборудование используется для получения однослойных или многослойных сегнетоэлектрических тонких пленок, проводящих пленок, пленок из сплавов, полупроводниковых пленок, керамических пленок, диэлектрических пленок, оптических пленок и т.д.
Данная установка оснащена источником питания постоянного тока и радиочастотным источником питания. Мощность колеблется от 500 Вт до 1000 Вт. По сравнению с обычным плазменным распылением магнетронное распыление обладает преимуществами высокой энергии,высокой скорости, высокой скорости осаждения и низкого повышения температуры образца. Мишень магнетрона снабжена промежуточной прослойкой с водяным охлаждением. Охладитель воды может эффективно отводить тепло и избегать его накопления на поверхность мишени, так что магнетронное покрытие может стабильно работать в течение длительного времени.
Вся машина управляется с помощью сенсорного экрана и встроенной программы нанесения покрытия одной кнопкой, которая проста в эксплуатации и является идеальной оборудование для получения тонких пленок в лаборатории.
Характеристики