- Под заказ
Настольное установка для нанесения магнетронного покрытия с двойной мишенью
2 825 000,00 ₽
12 недель
Данное оборудование используется для получения однослойных или многослойных сегнетоэлектрических тонких пленок, проводящих пленок, пленок из сплавов, полупроводниковых пленок, керамических пленок, диэлектрических пленок, оптических пленок и т.д.
Настольное установка для нанесения магнетронного покрытия с двойной мишенью была уменьшена в размерах, сохранив при этом высоковакуумную полость из нержавеющей стали, одновременно упростив другие механизмы, ограничив форму оборудования уровнем рабочего стола, что значительно снизило требования к месту установки. Оборудование оснащено источником питания постоянного тока и радиочастотным источником питания. Мишень постоянного тока может использоваться для распыления металлов и других проводящих материалов. Радиочастотный источник питания может использоваться для распыления различных неметаллов и оксидов металлов. В данной установке используются все импортные вакуумные насосы с высокой скоростью откачки, высоким предельным вакуумом и превосходными вакуумными характеристиками. Оборудование имеет компактную конструкцию, разнообразные функции, а также простое в использовании. Данное оборудование подходит для различных испытаний покрытий с помощью магнетронного устройства.
MICRO-PVD-150-M2
Характеристики
- Скорость вращения центрифуги
- 0-20 оборотов
- Диаметр обрабатываемых образцов
- 150 мм
- Габаритные размеры
- 550мм х 550мм х1100мм
- Рабочая температура
- до 500℃
- Скорость перекачки
- Безмасляным насосом: 0,49л/с
- Размер камеры
- φ210mm X 230mm
- Напряжение
- AC220V, 50 Гц
- Количество распылительных головок
- 2
- Размер распылительной головки
- 2 дюйма
- Смотровое окошко
- φ40 мм
- Предельная степень вакуума
- 1,0E-3Pa
- Источник питания постоянного тока для распыления
- 1
AC 220V 50/60 Гц - Радиочастотный источник питания для распыления
- 1
- Материал вакуумной камеры
- Нержавеющая сталь SS304
- Открыть центрифугу можно с помощью
- Входной дверцы
- Механический насос вакуумной камеры
- Импортный безмасляный мембранный насос
- Молекулярный насос вакуумной камеры
- 40Л/С Вакуумная система
Импортированный молекулярный насос - Выходной порт механического насоса
- KF16
- Выходной порт молекулярного насоса
- KF40
- Общая мощность
- 2 кВт
- Входной порт
- KF16
- Измерение вакуума
- Датчик сопротивления + датчик ионизации
- Максимальная выходная мощность источника питания постоянного тока
- 500 Вт
- Максимальная выходная мощность радиочастотного источника питания
- 500 Вт
Комментарии (0)
Еще нет отзывов.
В этой категории 16 товаров:
Данное оборудование используется для получения однослойных или многослойных сегнетоэлектрических тонких пленок, проводящих пленок, пленок из сплавов, полупроводниковых пленок, керамических пленок, диэлектрических пленок, оптических пленок и т.д.