Химически стойкая система реактивного ионного травления

Размер подложки - 8 дюймов

Радиочастотный источник питания - Регулируемая мощность 0-300 Вт/500 Вт/1000 Вт, автоматическое согласование 

Молекулярный насос -Антисептик 620(Л/с)/1300(л/с)/Индивидуальный Антисептик 620(л/с)/1300(л/с)/Под заказ

Передний насос - Сухой насос

Рабочее давление - Неконтролируемое давление/0-1Торр регулируемое давление

Тип газа - H2/CH4/O2/N2/Ar/F6/CF4/ CHF3/C4F8/NF3/Cl2/BCl3/HBr (До 9 каналов)

Газовая плита - 0 ~ 5 см /50 см/ 100 см/200 см/300 см/500 см/на заказ

Блокировка нагрузки - Да

Температурный контроль образцов - -30°C~100°C/На заказ

Обратное гелиевое охлаждение - Да

Технологическая облицовка полости - Да

Контроль температуры стенки полости - Комнатная температура-60/120°C

Система управления - Автоматическая/ Под заказ

Материал для травления:
На основе кремния: Si/SiO2/SiNx···
III-V(注3): InP/GaAs/GaN......
IV-IV: SiC
II-VI (注3): CdTe......
Магнитные материалы/сплавы
Металлический материал: Ni/Cr/Al/Au.....
Органический материал: PR/PMMA/HDMS/Органический