- Под заказ
Очистительная вакуумная центрифуга для нанесения жидких растворов с двумя рабочими станциями
2 702 583,33 ₽
12 недель
Данная система используется для нанесения жидких или коллоидных материалов на кремниевые пластины, кристаллы, кварц, керамику и другие подложки с образованием тонких пленок. В основном используется при нанесении жидких растворов на фоторезист, приготовлении биологической среды, золь-гель методе производства полимерных пленок и т.д
Гомогенизаторы очищающего типа широко используются для гомогенизации и нанесения покрытий на полупроводниковые кремниевые пластины. Например, при обработке больших пластин, чипов, полупроводниковых пластин и т.д. Данное оборудование может быть использовано для нанесения на поверхность различных коллоидов или фотолитографической гомогенизации. Оборудование специализируется на равномерном нанесении клея в процессе производства интегральных схем и полупроводниковых приборов. Клеящая часть оборудования содержит двухпозиционные столы для выравнивания клея, которые могут работать независимо или одновременно.
CY-GKF411
Характеристики
- Скорость вращения центрифуги
- 0-8000 Об/Мин
- Габаритные размеры
- 800x680x1700 мм
- Размер подложки
- 10мм-100мм пластина или другой материал
- Время нанесения покрытия
- 1-99 cек
- Точность по времени
- ±5%
- Точность скорости
- ±3%
- Рабочая станция
- Две станции
- Очищающий эффект
- 100% (федеральный стандарт США)
- Скорость ветра в рабочей зоне
- 0,3-0,5 м/с
- Управление системой
- ПИД-программируемое управление
Комментарии (0)
Еще нет отзывов.
В этой категории 16 товаров:
Данная система используется для нанесения жидких или коллоидных материалов на кремниевые пластины, кристаллы, кварц, керамику и другие подложки с образованием тонких пленок. В основном используется при нанесении жидких растворов на фоторезист, приготовлении биологической среды, золь-гель методе производства полимерных пленок и т.д