Плазменный очиститель объемом 2 л (300W)

Плазмоочиститель объемом 2 л оснащен механическим вакуумным насосом, в то время как вакуумирование поддерживает вакуум в камере, загрязняющие вещества после плазменной реакции также могут быть откачаны вакуумным насосом; таким образом, кратковременная очистка позволяет полностью удалить органические загрязнители.

В дополнение к функции очистки, этот небольшой плазменный очиститель может изменять свойства поверхности некоторых материалов в соответствии с потребностями при определенных условиях. В процессе очистки тлеющий разряд небольшого плазмоочистителя не только улучшает адгезию, совместимость и смачиваемость этих материалов, но и дезинфицирует и стерилизует их.

Этот плазмоочиститель подходит для лабораторных работ и мелкосерийного производства. Радиочастотный источник питания, работающий на частоте 13,56 МГц, может использоваться для работы с различными типами газовой плазмы. Существует множество стандартных спецификаций для радиочастотного источника питания мощностью от 100 до 1000 Вт, которые могут удовлетворить различные потребности пользователей.