Вакуумный плазменный очиститель микросхем интегральной схемы

Машина для вакуумной плазменной очистки подходит для производства печатных плат, полупроводниковых микросхем, силикона, пластика, полимеров, автомобильной электронной промышленности, авиационной промышленности и т.д. Производство печатных плат: активация поверхности высокочастотных плат, очистка поверхности многослойных плат, удаление пятен от сверления, очистка поверхности мягких плат и жестких гибких плат, удаление пятен от сверления, активация мягких плат перед армированием. Область применения полупроводниковых микросхем: процессы COB, COG, COF, ACF, используемые для очистки перед склеиванием проволоки и сваркой; силикагель, пластик, полимер: придание шероховатости поверхности, травление и активация силикагеля, пластика и полимера.